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Brooks instruments RS485-Durchflussmesser
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Prozesstemperatur: 5 °C - 50 °C
Prozessdruck: 0 bar - 10 bar
Präzision: 0,35, 1 %
... Serviceanschluss ist unabhängig von der Gerätekommunikation • Multiprotokoll-Kommunikation mit DeviceNet™, EtherCAT®, Profibus® und RS-485 Analogschnittstelle Ihre Vorteile • MultiFlo™ Technologie für ...
Brooks Instrument

Durchsatz: 0 l/min - 300 l/min
Prozesstemperatur: 0 °C - 50 °C
Prozessdruck: 0 bar - 34,47 bar
... Reinheit. Die Durchflussmessgeräte sind extra für die Halbleiterproduktion entwickelt. Dabei übertrifft die Serie GF100 den Halbleiterindustriestandard und stellt eine wiederholbare, zuverlässige Leistung sicher. Alle ...
Brooks Instrument

Prozesstemperatur: 0 °C - 50 °C
Prozessdruck: 0 bar - 10,34 bar
Präzision: 0,35, 1 %
... Reinheit. Die Durchflussmessgeräte sind extra für die Halbleiterproduktion entwickelt. Dabei übertrifft die Serie GF100 den Halbleiterindustriestandard und stellt eine wiederholbare, zuverlässige Leistung sicher. Alle ...
Brooks Instrument

Massendurchfluss: 10 g/h - 27.000 g/h
Prozesstemperatur: 0 °C - 65 °C
Prozessdruck: 10 psi - 200 psi
... erforderlich ist. Merkmale Echte Massendurchflussmessung Genaue Dichtemessung Neue E/As: 0-10 Vdc, 0-20 mA, RS485 S-Protokoll
Brooks Instrument

Durchsatz: 0 l/min - 36.000 l/min
Prozesstemperatur: -14 °C - 65 °C
Prozessdruck: 310, 100, 70 bar
... ohne den MFC außer Betrieb zu setzen • Breites Spektrum an Kommunikationsoptionen einschließlich DeviceNet®, Profibus® und RS-485 sowie Analogschnittstellen • Höchste Prozessgenauigkeit und -regelung ...
Brooks Instrument

Durchsatz: 0 l/min - 300 l/min
Prozesstemperatur: 0 °C - 50 °C
Prozessdruck: 7 psi - 90 psi
... unabhängiger Diagnose-/Serviceanschluss • Schlankes Gehäuse mit VCR-Verschraubungen oder Downport • DeviceNet™, Profibus®, RS-485- und analoge Schnittstellen
Brooks Instrument

Prozesstemperatur: 0 °C - 150 °C
Prozessdruck: 0 psi - 90 psi
Präzision: 1, 0,35 %
... hochtemperatur-Massendurchflussregler (MFCs) und -messgeräte sind für die Steuerung und Messung des Massendurchflusses von Dämpfen aus flüssigen oder festen Quellen konzipiert, um die zunehmende Verwendung dieser Vorprodukte in Halbleiterherstellungsprozessen ...
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