ZEISS GeminiSEM steht für müheloses Imaging mit Auflösungen im Subnanometerbereich. Diese FE-SEMS (Feldemissions-Rasterelektronenmikroskope) verbinden Kompetenz in Imaging und Analytik. Dank der Innovationen in der Elektronenoptik und dem neuen Design der Probenkammer profitieren Sie von besserer Bildqualität, einfacher Bedienbarkeit und hoher Flexibilität. Sie können Bilder im Subnanometerbereich unter 1 kV ganz ohne Immersionsobjektiv aufnehmen. Entdecken Sie die drei einzigartigen Designs der ZEISS Gemini-Elektronenoptik.
Ideal für Imaging-Einrichtungen – ZEISS GeminiSEM 360
Ermöglicht effiziente Analysen – ZEISS GeminiSEM 460
Neuer Standard für Oberflächen-Imaging – ZEISS GeminiSEM 560
Sie profitieren von oberflächenempfindlichem Imaging und können Daten bei niedriger Spannung oder hohem Sondenstrom erfassen. Entdecken Sie die Vorteile der Inlens-Detektion, von NanoVP, der Darstellung von Bildern in ihrem Kontext oder der KI-gestützten Segmentierung.
Einfach nahtlos wechseln: vom Arbeiten mit niedrigen Sondenströmen und Spannungen zu Einstellungen mit hohen Strom- und kV-Werten. Erweitern Sie Ihre Möglichkeiten mit einem In-situ-Labor für Erwärmungsprüfungen und Zugversuche. Weitere Vorteile, die Sie nutzen können: eine komplanare EDX/EBSD-Konfiguration, EDX-Elementverteilungsbilder ohne Abschattungen und die schnelle Erfassung von EBSD-Mappings mit 4.000 Mustern/s
Entdecken Sie den neuen Standard für das Oberflächen-Imaging: Das magnetfeldfreie Imaging mit einer Auflösung von unter 1 nm bei unter 1 kV, ganz ohne Probenvorspannung oder Monochromator. Gemini 3 ist mit der Nano-twin-Linse und der neuen Elektronenoptik-Engine Smart Autopilot ausgestattet