Thermische Isolierung

Aluminiumnitrid

Aluminiumnitrid (AlN) ist ein hochentwickeltes technisches keramisches Material, das eine äußerst interessante Kombination aus sehr hoher Wärmeleitfähigkeit (bis zu 230 W/m.K) und hervorragenden elektrischen Isolationseigenschaften aufweist. Dies macht Aluminiumnitrid (AlN) zu einem Keramiksubstrat, das in der Leistungs- und Mikroelektronik breite Anwendung findet. Es wird zum Beispiel als Schaltungsträger (Substrat) in Halbleitern oder als Kühlkörper in der LED-Beleuchtungstechnik oder in der Hochleistungselektronik verwendet. Vorteile von Aluminiumnitrid(AlN)-Keramiksubstrat hohe Wärmeleitfähigkeit (170-230W/mK), bis zu 9,5 Mal höher als die von Aluminiumoxid-Keramiksubstrat. ähnlicher Wärmeausdehnungskoeffizient wie der von Silizium (Si), GaN und GaAs-Halbleitern. Dies trägt zu einer hohen Zuverlässigkeit von Silizium (Si) Chips und thermischen Aufheizzyklen bei. -Hohe elektrische Isolierung und kleinere Dielektrizitätskonstante. -Hohe mechanische Festigkeit (450MPa). -Bessere Korrosionsbeständigkeit gegen geschmolzenes Metall. -Sehr hohe Reinheit, keine Toxizität.