Messsystem für Wafer

Kerr-Effekt (MOKE)optischLaser

Mit dem poloidalen magneto optischen Kerr-Effekt (MOKE) werden die magnetischen Eigenschaften von Wafers tapeln schnell und global erkannt. Die berührungs lose Messung vermeidet eine Beschädigung des Wafers durch herkömmliche magnetische Charakterisierung und kann auf die Proben detektion vor und nach der Struktur ierung angewendet werden. Wafer Moke kann ein vertikales Magnetfeld von bis zu 2,5 T/1,3 T in der Ebene bereitstellen, und das starke Magnetfeld kann das Umdrehen der freien Schicht, der Referenz schicht und der angehefteten Schicht des vertikalen anisotropen magnetischen Direkt zugriffs speichers (MRAM) induzieren. Films tapel; Ultra hohe Kerr-Detektion empfindlichkeit, die die subtilen magnetischen Änderungen verschiedener Films ch ichten gleichzeitig charakterisieren kann. Durch die Kombination der Laser-Punkt-für-Punkt-Erkennung mit der Scan-Bildgebung kann schnell eine globale Karte der magnetischen Wafer eigenschaften erstellt werden, die die Prozess optimierung und die Ertrags kontrolle unterstützt. Leistungs indikatoren und Vorteile ▹Sample-Größe: unterstützt bis zu 12-Zoll-Wafertests und ist abwärts kompatibel, unterstützt Fragment tests; ▹Magnetfeld: das maximale vertikale Magnetfeld ist besser als ± 2.5 T und die Magnetfeld auflösung beträgt 1 μT; ▹Magnetische Detektion empfindlichkeit: Der Erkennungs grad des Kerr-Drehwinkels ist besser als 0,3 mdeg (RMS), geeignet für die magnetische Charakterisierung von mehr schicht igen Films tapeln; ▹Genauigkeit der Proben wiederholung position ierung: besser als ± 1 μm, statischer Jitter ≤ ± 0,25 μm.