GISAS-Diffraktometer Xeuss 3.0

SAXSUSAXSWAXS

Der Strahlengang der nächsten Generation für das Labor Maximale Flexibilität Ultimative Leistung Reichlich Platz für die Probenumgebung Das Xeuss 3.0 ist die neueste Gerätegeneration der bewährten Xeuss-Familie und wird bereits in führenden Forschungseinrichtungen auf der ganzen Welt eingesetzt. Es enthält alle neuesten Innovationen von Xenocs für zusätzliche Fähigkeiten, Flexibilität und Benutzerfreundlichkeit. Charakterisieren Sie die Nanostruktur von weicher Materie und Nanomaterialien mit SAXS/WAXS- und USAXS-Technik im Transmissions- oder Streiflichtmodus. - Partikelgrößenverteilung im Bereich von wenigen Nanometern bis zu mehr als 350 nm Durchmesser - Kristallisationsraten und lamellare Struktur von teilkristallinen Polymeren - Größen- und Formanalyse von Tensiden oder Proteinen in Lösungen - Organisation und Orientierung von Nanomaterialien auf atomarer oder Nanoskala, in Massenphasen oder an Oberflächen - Studien zur Phasentrennung von Legierungen - In-situ-Untersuchungen von Nanostruktur-Übergängen Maximale Flexibilität Bereitstellung von Strukturwerkzeugen für einen großen Nutzerkreis mit vollständiger Fernbedienungsfähigkeit und Zugang zu einem einzigartigen Spektrum von Längenskalen. Die Entwicklung und das Design fortschrittlicher Nanomaterialien erfordern eine Charakterisierung über einen großen Bereich von Längenskalen. Das Xeuss 3.0 bietet eine solche Messmöglichkeit über bis zu 5 Größenordnungen in q (Wellenvektor) durch vollständig motorisierte Änderung der Konfigurationen. Jeder geschulte Benutzer kann somit das System über seinen gesamten Messbereich für eine bestimmte Probe oder eine Reihe von Proben fernbedienen. Die automatische Änderung der Messeinstellungen umfasst: Q-Xoom Änderung der Messauflösung durch motorisierte Verschiebung des Detektors Sequentielle SAXS /USAXS-Messung mit Bonse-Hart USAXS-Modul