Relativdrucksensor DKS-CP300-L2
Siliziumanalog8 V DC

Relativdrucksensor - DKS-CP300-L2 - Wuxi Bewis Sensing Tecnology LLC - Silizium / analog / 8 V DC
Relativdrucksensor - DKS-CP300-L2 - Wuxi Bewis Sensing Tecnology LLC - Silizium / analog / 8 V DC
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Eigenschaften

Drucktyp
relativ
Technologie
Silizium
Ausgang
analog
Versorgungsspannung
8 V DC
Einbauart
Gewinde
Prozessanschluss
G 1/2, NPT 1/2, M20 x 1,5
Material
Edelstahl
Anwendung
für die petrochemische Industrie, für Gas- und Erdölindustrie, für die chemische Industrie
Weitere Eigenschaften
MEMS
Druckbereich

Max: 40 MPa

Min: 4 MPa

Langzeitstabilität

Max: 0,05 %

Min: 0 %

Prozesstemperatur

Max: 85 °C
(185 °F)

Min: -40 °C
(-40 °F)

Beschreibung

Der BW-DKS-CP300 Drucksensor verwendet einen monokristallinen Silizium-Sensorchip, der mit der fortschrittlichen deutschen MEMS-Technologie hergestellt wird, und das weltweit einzigartige Design der monokristallinen Silizium-Doppelstrahl-Aufhängung, das die international führende Überdruckleistung erreicht und die ausgezeichnete Stabilität des Signals gewährleistet. Eingebettet in die intelligente, original importierte Druckmessmembran und das Signalverarbeitungsmodul, realisiert er die perfekte Kombination aus statischem Druck und Temperaturkompensation, die eine hohe Messgenauigkeit und -stabilität in einem weiten Bereich von statischem Druck und Temperatur bietet. Der Drucksensor BW-DKS-CP300 ist ein Drucksensor, der direkt auf die Membran des Sensors einwirkt, wodurch die Membran eine zum Druck proportionale Mikroverschiebung erzeugt, diese Änderung mit einer integrierten elektronischen Schaltung erfasst und den Ausgang in ein dem Druck entsprechendes Standardmesssignal umwandelt.

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.