Die elektronischen Dosierpumpen der EWN-Serie bieten eine überragende Hochgeschwindigkeits-Dosierfähigkeit mit mehr Standardfunktionen. Die Flexibilität der EWN-Pumpe ermöglicht die Integration in praktisch jede chemische Dosieranwendung unter Verwendung eines digitalen Universalspannungsreglers mit einer erweiterten Reihe von Steuerfunktionen. Hervorragende Ventilleistung und fortschrittliche Magnettechnik ergeben zusammen eine hochpräzise Pumpe für die anspruchsvollsten Anwendungen.
Die Pumpen der EWN-Serie haben eine Leistung von bis zu 6,7 GPH (25,2 L/h) und einen maximalen Druck von 20 bar (290 PSI). Die hohe Arbeitsgeschwindigkeit sorgt für eine hochauflösende Chemikalienzufuhr und eine lange Lebensdauer. Die leisen und kompakten EWN-Pumpen sind in Sekundenschnelle betriebsbereit und halten die Betriebsbereitschaft zuverlässig.
Zwei Controller-Optionen bieten verschiedene Funktionen, Ausgänge und eine flexible Pumpensteuerung, einschließlich skalierbarer Analogsteuerung, Digitaleingang mit Multiplikations- und Divisionsfunktion, Batch-Steuerung, externe Stop-, AUX- und Interlock-Eingänge, Analog- und Alarmausgänge sowie eine einfache Drehzahl- und Hublängensteuerung. Die Anzeige kann zwischen Durchflusseinheiten, % Geschwindigkeit oder SPM für eine leicht ablesbare Ausgabe eingestellt werden und ermöglicht eine schnelle Einstellung. Der Regler ist mit einer Universalspannung ausgestattet, so dass er überall auf der Welt eingesetzt werden kann.
Merkmale der Integration des EFS-Sensors mit der EWN-Y-Pumpe:
- Die EWN-Y-Pumpe in Kombination mit dem EFS-Durchflusssensor ermöglicht eine genaue Echtzeitsteuerung und Anzeige der Dosierrate.
- Mit der Sollwertsteuerung kann die gewünschte Durchflussrate einfach in die Pumpe programmiert werden. Die Pumpe ändert die Rate, um die angestrebte Durchflussrate zu erreichen - ganz ohne zeitaufwendige Kalibrierung.
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