Ionenquelle RF

12cm HF-Ionenquelle Entwickelt für eine verbesserte Produktion von Long-Run-Ionenstrahl-Depositionsprozessen Verbessern Sie die Leistung und Qualität von langen, ununterbrochenen Reaktionsprozessen wie der Ionenstrahlunterstützung oder der Ionenstrahlabscheidung von hochkontrollierten optischen Beschichtungen mit der Veeco 12cm RF-Ionenquelle. Es verfügt über den branchenweit einzigen filamentlosen HF-Neutralisierer, der wartungsarm ist und lange Produktionsläufe ermöglicht. Die 12 cm HF-Ionenquelle ist ideal für Prozesse mit 100 Prozent Argon, Sauerstoff oder anderen reaktiven Gasen. Unterstützt einen breiten Einsatzbereich: 50 bis 1500eV und 50 bis 500mA Zuverlässiger, gleichmäßiger Betrieb in inerter und oxidierender Umgebung Wassergekühlt - Niedriger bis mittlerer Leistungsbedarf Stabiler und effizienter Plasmabetrieb ermöglicht präzise Steuerung und hohe Wiederholgenauigkeit Gut geeignet für chargen- und lastsichere Produktionsprozesse