PVD-Auftragsmaschine NEXUS PVD-1

PVD durch thermisches VerdampfenDünnschichtfür die Optoelektronik

Veecos NEXUS PVD-1 ist ein physikalisches Dampfabscheidungssystem für Einzelwafer. Es ist ein vielseitiges, einfach zu bedienendes Werkzeug für verschiedene Anwendungen. Es garantiert Einfachheit, Zuverlässigkeit und Leistung bei jedem Betrieb. Das System kann für verschiedene Datenspeicheranwendungen wie Oxid- und Nitridabscheidung und verschiedene magnetische Materialien maßgeschneidert werden. Es kann mit einer Vielzahl von Wafergrößen und einem leistungsstarken, kostengünstigen Werkzeug für Halbleiter-, GaAs- und Verpackungsanwendungen erworben werden. Dieses physikalische Gasphasenabscheidesystem lässt sich leicht an spezielle Prozess- und Produktionsanforderungen anpassen. Es unterstützt verschiedene Wafergrößen von 3" bis 8" rund. Das Gesamtpaket umfasst Kathoden, Waferspannfutter, Gasversorgungen, Verschlüsse und Pumppakete. Es ist für eine einfache und schnelle Integration mit NEXUS Ion Beam Etch, Ion Beam Deposition und anderen physikalischen Dampfabscheidungswerkzeugen konzipiert. Die gebotene Modularität vereinfacht Bedienungs- und Wartungsschulungen sowie die Ersatzteilbevorratung.