Ionensputterquelle

16cm HF-Ionenquelle Breite, einheitliche HF-Ionenquelle für hochreaktive Prozesse Veeco bietet eine breite, einheitliche Ionenstrahlquelle für reaktive Prozesse, wie z.B. Ionenstrahlunterstützung oder Ionenstrahlabscheidung von hochkontrollierten optischen Beschichtungen. Unterstützt einen breiten Einsatzbereich: 50 bis 1500eV und 75 bis 700mA Zuverlässiger, gleichmäßiger Betrieb in inerter und oxidierender Umgebung Wassergekühlt - Für den Betrieb mit niedriger bis hoher Leistung Optionales Vier-Raster-Design bietet eine sehr hohe Kollimationsrate Ausgestattet mit dem branchenweit einzigen filamentlosen HF-Neutralisierer, der wartungsarm ist und lange Produktionsläufe ermöglicht Stabiler und effizienter Plasmabetrieb ermöglicht präzise Steuerung und hohe Wiederholgenauigkeit Gut geeignet für chargen- und lastsichere Produktionsprozesse