Messsystem / kritische Dimension MT2010VIS/UV

Dickenoptischfür Halbleiter

TZTEK bietet hochpräzise und wiederholbare Systeme für die Maskenmesstechnik, die bei der Maskenherstellung erforderlich sind. Masken können GOG und PSM oder andere sein. Für die Anforderungen der Masken-IQC in der Fabrik bietet TZTEK Objektive mit großem Arbeitsabstand zum Schutz der Maske mit Pellicle. Für die CD-Messung auf der Maske bietet das System sichtbare und UV-Beleuchtung sowohl im reflektierten als auch im transmittierten Modus. Mit der UV-Beleuchtung kann die Strukturbreite bis zu 300 nm gemessen werden, die Wiederholbarkeit (3sigma) liegt meist im Nanometerbereich. hauptmerkmale -Messung der Dicke der Maskenschicht und der kritischen Abmessungen -Visuelle, UV- und Infrarot-Beleuchtung verfügbar -SECS/GEM -Geringe Wartungskosten, stabil und zuverlässig