Plasma-Generator / Hoch -PE-CVD TruPlasma DC 4000 (G2)
PVD

Plasma-Generator / Hoch -PE-CVD - TruPlasma DC 4000 (G2)  - TRUMPF Power electronics - PVD
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Eigenschaften

Aushärtegeschwindigkeit
Hoch -PE-CVD, PVD

Beschreibung

Die TruPlasma DC Serie 4000 (G2) wurde speziell für das reaktive DC-Sputtern mit schwierigen Materialien entwickelt. Die mit gepulstem Gleichstrom arbeitenden Generatoren bewähren sich insbesondere in kritischen PVD- und PECVD-Prozessen, bei denen zugleich höchste Schichtqualität und Produktivität verlangt werden. Die kompakten DC-Prozessstromversorgungen sind sowohl im gepulsten als auch im Bias-Betrieb einsetzbar – sozusagen zwei Geräte in einem Gehäuse! Hohe Schichtqualität und Produktivität Digitale Signalverarbeitung garantiert stabile Prozesse und minimale Arc-bedingte Zeitverluste. Beste Ergebnisse auch in kritischen Prozessen Schnelle Arc-Behandlung in Kombination mit DC-Pulstechnologie minimiert Substratschädigungen. Einfache Prozessanpassung Dank breitem Frequenzspektrum und anpassbarer Reverse-Voltage. Kompakte und robuste Bauweise Die integrierte Wasserkühlung spart Platz und reduziert den Wartungsaufwand.

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.