Plasma-Generator / Hoch -PE-CVD TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1)

PVD

Die Prozessstromversorgungen der TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) wurden speziell für die plasmagestützte Beschichtung mittels PVD-, PECVD- und reaktiven Sputter-Prozessen entwickelt und liefern mit flexibel formbaren Ausgangssignalen und einem ausgefeilten Arc-Management exzellente Ergebnisse bei der Herstellung von Solarzellen und Halbleitern, bei der Aufbringung dekorativer und verschleißfester Schichten sowie bei der Beschichtung von Architekturglas. Äußerst geringe Arc-Energie Volldigitales Arc-Management für höchste Schichtqualität und Produktivität. Einstellbare Wellenformen Einfache Anpassung an unterschiedliche Prozesse durch Variation des Ausgangssignals. Ein Generator, viele Anwendungen DC, gepulstes DC und Bipolar: Kostenersparnis dank vielfältiger Einstelloptionen. Integrierte Wasserkühlung Keine externen Komponenten erforderlich, daher sehr geringer Platzbedarf.