PVD-Auftragsmaschine Titan DepositionHoch -PE-CVDelektrostatischVakuum
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Eigenschaften
- Methode
- PVD, Hoch -PE-CVD, elektrostatisch
- Weitere Eigenschaften
- Vakuum
Beschreibung
Die produktionserprobte Titan Deposition ist ein belastungsgeregeltes Depositionssystem mit einem Vakuumkassettenaufzug. Es kann für PECVD, HDCVD, PVD oder ALD konfiguriert werden. Die Titan Deposition bietet innovative und hochmoderne Prozesse auf kleinstem Raum zu einem erschwinglichen Preis.
Standardproduktionsprozesse wurden für die wiederholbare Abscheidung von SiOx, SiNx, SiC und a-Si entwickelt. Unterstützt durch mehr als 25 Jahre Erfahrung in der schnellen Prozessentwicklung.
Systemfunktionen:
SPS- und Touchscreen-Steuerung
Elektrostatisches oder mechanisches Spannfutter
Aktive Substrattemperaturregelung
Vakuum-Kassettenaufzug
Optionale Laser- und optische Endpunkte
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Kataloge
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