PCB-Ätzmaschine / Plasma SIRUS T2

für Leiterplatten

Das Sirus-T2 reagierender Ion Etcher ist ein grundlegendes Plasmaradierungssystem, das entworfen sind, um Dielektrika zu ätzen und andere Filme, die Fluor-ansässige Chemie erfordern. Der kleine Abdruck und der robuste Entwurf machen es ideal für die Laborumwelt. Anwendungen MEMS, Festkörper- beleuchten, Fehleranalyse, Forschung u. Entwicklung, Versuchs-Line. Fluor-Ätzungs-Prozesse (SF6, CF4, CHF3, O2) • Kohlenstoff• Si • Epoxy-Kleber• SiO2 • InSb• Si3N4 • Ir• Sic • MO• Ta • Notiz: • Tan • OxyNitride• TiW • Polyimide • Zinn • PR (z.B.: Seide oder SU8)• W • Quarz Werkzeug-Standardausrüstungen Sirus-T2reaktor mit 200mm Grundelektrode Systemprüfer (schließt Pentium™ basierte Computer- und Screen-Schnittstelle) ein Zwei Massenstromprüfer Automatisch, mit 13,56 MHZ 600 Watt Rf-Generator abstimmend Notfall weg vom System Automatisches Druckregelungspaket (Drosselventil mit Kapazitanzmanometer für Druckmessung) 12-monatige begrenzte Garantie Zusatzeinrichtungen Rezirkulieren des Temperaturbegrenzers Bis zwei zusätzliche Massenstromprüfer Pumpen 170 l/s Turbo 23,3 cfm Drehschieberpumpe mit Ölfiltration, Demister und Fomblin-Öl Das Sirus-T2system erfordert eine skizzierende Pumpe und entweder ein Kühler oder Kühlwasser mit größer als 4 m-Ohmwiderstandskraft.