Galvanischer Pad-Konditionierer für Halbleiter-Polierpads
Diese Scheibe wird zum Abrichten/Konditionieren von Polierpads verwendet, die beim Abflachen von Halbleiterbauteilen eingesetzt werden. Die galvanische Aufbringung der entsprechenden Schleifkörner des ausgewählten Diamanten auf ein Basismetall sorgt für eine stabile Abrichtung/Konditionierung und führt zu einer Verringerung der individuellen Unterschiede
Arbeitsmaterialien: Urethan-Pad, Vliesstoff-Pad, Wildleder-Pad, die Halbleiter-Polierkissen sind
Bindung: Galvanisch
Spezifikation
*Außendurchmesser: ~φ740D(29B)
*Genauigkeit der Basis: Ebenheit ≤ 0,3 Satztoleranz ≤ 0,05
*Grundmaterialien: SUS304, SUS420
*Beschichtung der Basis: Mit oder ohne Teflonbeschichtung
*Galvanisierte Oberfläche: einseitig oder beidseitig
*Schleifkorn: Diamant (blockiger Typ)
*Partikelgröße: #60 ~ 400
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