Nanometer-Linearachse
HV / UHV, 100 - 300 mm Verfahrweg, 0.02 µm Wiederholgenauigkeit, bis 10 kg Last
• Vakuum: alle Bereiche HV / UHV bis 10E-11 mbar
• Schmierung: flüssig bis 10E-8 mbar / trocken bis 10E-11 mbar
• Max. Ausheiztemperatur: 120°C
Optional konfigurierbar:
• Verfügbar als magnetische, magnetarme und magnetfreie Ausführung
• Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Vakuumschmierung
• Individuelle Anpassung an die Einbausituation in der Kammer
• Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)
• Optional mit Controller FMC400/450
Horizontale und vertikale Nanometer-Positionierung
Diese Vakuum-Linearachse für alle HV / UHV Bereiche bis 10-11mbar geeignet. Sie ist universell einsetzbar, da sie auch für vertikale Positionieraufgaben verwendet werden kann. Sie erreicht im Vakuum extrem hohe Auflösungen und höchste Steifigkeit. Je nach zu bewegender Last können 2 bis 6 Motoren in Zangenanordnung verwendet werden.
Anwendungsfelder
Hochpräzise Scananwendungen, Mikromontage, Halbleitertechnik im Ultrahochvakuum und unter Ultraviolettstrahlung, Vakuumkammern, Forschung, Beamline-Instrumentierung, Elektronikmontage und -inspektion