3-Achs-Positioniersystem 782462:002.26

linearfür die Halbleiterindustriefür Wafer-Handling

Yield-Maximierung im kleinsten Bauraum Dieses hochpräzise Positioniersystem ist speziell als ergänzender Polarisationsfilter für die Miniaturisierung und Automatisierung in der EUV-Lithografie entwickelt worden. Dieser maximiert die Belichtungsqualität als auch den Yield eines vorhandenen Wafer-Steppers unter stark begrenztem Bauraum von ca. 120 x 180 x 31 mm. Dazu werden drei, unabhängig voneinander positionierfähige Filter im Strahlengang der optischen Anlage verschoben. Es kann für hochauflösende Prozesse unter extremen Umweltbedingungen eingesetzt werden, wie EUV und eine trockene sowie sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre. Optimierung der Genauigkeit in extremen Umgebungen • Ideal für die Miniaturisierung in der automatisierten EUV-Lithografie • Maximierung des Yield sowie der Auflösung von vorhandenen Wafer-Stepper-Systemen auf kleinstem Raum (ca. 120 x 180 x 31 mm) • Genauigkeiten bis zu 1.5 µm unter extremsten Umweltbedingungen: EUV, trockene, sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre • Wartungsfreier und flexibler 24/7 Betrieb über viele 1.000 Stell-Zyklen, verteilt über 10 Jahre Optional erweiterbar: • Verschiedene Verfahrwege • Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Vakuumschmierung • Individuelle Lösungen für die Integration in die kundenspezifische Gesamtanwendung • Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)