• Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis 10E-11 mbar
• Schmierung flüssig bis 10E-8 / trocken bis 10E-11 mbar
• Max. Ausheiztemperatur: 120°C
• Reinraum Klasse 4 nach ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)
• Verfügbar als magnetische Ausführung
• Sehr hohe Lebensdauer, auch bei Trockenlauf
Optional konfigurierbar:
• Verfügbar mit Piezobremse
• Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Vakuumschmierung
• Individuelle Anpassung an die Einbausituation in der Kammer
• Optional mit Controller FMC400/450
Stabilität im Nanometerbereich trotz hoher Lasten bis 10 kg
Der Lineartisch ist dafür ausgelegt unter extremen Bedingungen, wie im Hochvakuum und im Ultra-Hochvakuum, Lasten mit einer hohen Steifigkeit zu positionieren. Ausgestattet mit einer Piezozangenbremse, erreicht dieses Positioniersystem eine Stabilität im Nanometerbereich.
Anwendungsbereiche
Halbleitertechnik im Ultrahochvakuum und unter extrem ultravioletter Strahlung, Waferjustage, Wafer Inspektion, Kamerajustage, Sensorjustage, Inspektion von Kontakten, Ausrichten von Spiegeln, Probing, Vakuumkammern, Forschung, Beamline-Instrumentierung, Elektronikmontage und -inspektion, Hochpräzise Scananwendungen