Hochauflösender, stabiler Apertur-Drehtisch
UHV, DUV / EUV, Reinraum ISO 6, n x 360°, Repro 0.0002°, Speed 180°/s, Last 15 kg
• - Reinraum: Varianten bis Klasse ISO 6 (höher auf Anfrage)
• - Strahlung: UV, DUV, EUV (Röntgen, Gamma auf Anfrage)
• - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV bis 10-11 mbar
• - Schmierung: flüssig bis 10-8 mbar / trocken bis 10-11 mbar
• - Max. Ausheiztemperatur: 120°C
Optionen:
• - Verfügbar als magnetische, magnetarme, magnetfreie Ausführung
• - Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Schmierung
• - Ausführung für Reinraum (bis ISO Klasse 1 auf Anfrage), Labor oder Produktion
• - Optional mit Controller FMC400/450 oder SPS-Anbindung
• - Kundenspezifische Entwicklung mit 3D-Entwurf, Prototypen, Serienproduktion
Anwendungsfelder
Hochauflösende, enorm stabile Inspektion / Mikroskopie z.B. AFM, Elektronenmikroskop, Ionen-Mikroskop, Rasterelektronenmikroskop, Rastertunnelmikroskop, Durchlichtmessungen in der Halbleitertechnik, Wafer Inspektion, Labormikroskopie, Bildgebende Systeme, Probenanalyse, Beamline-Instrumentierung, Synchrotron, Materialforschung, Materialanalyse