Hochauflösender Drehtisch mit großer Apertur
UHV, DUV / EUV, Reinraum ISO 6, n x 360°, Rep 0.0003°, Speed 300°/s, Last 5 kg
• - Reinraum: Varianten bis Klasse ISO 6 (höher auf Anfrage)
• - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV bis 10-8 mbar
• - Schmierung: flüssig bis 10-8 mbar / trocken bis 10-11 mbar
• - Max. Ausheiztemperatur: 100°C
Optional konfigurierbar:
• - Verfügbar als magnetische und magnetarme Ausführung (magnetfrei auf Anfrage)
• - Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Schmierung
• - Optional mit Controller FMC400/450
• - Kundenspezifische Entwicklung mit 3D-Entwurf, Prototypen, Serienproduktion
Hochpräzise mit dynamischer Bildgebung
Dieser kompakte und flache Drehtisch erreicht im Vakuum extrem hohe Auflösungen bei schnellen Prozessen. Durch das große Durchlicht von 79 mm / 3" können auch große Proben exakt positioniert, vermessen und analysiert werden. Er lässt sich zu anspruchsvollen Mehrachssystemen kombinieren und kann einfach über unsere FMC 400/450 Controller angesteuert werden.
Anwendungsfelder
Hochpräzise und dynamische Mikroskopie z.B. Elektronenmikroskop, Ionen-Mikroskop, Rasterelektronenmikroskop, Rastertunnelmikroskop, Beamline-Instrumentierung, Synchrotron, Materialforschung, Materialanalyse, Waferinspektion, Halbleiter Qualitätskontrolle, Halbleiterforschung