Temperaturregelsystem für das chemische Bad
Die integrierte Temperaturregeleinheit ersetzt eine Inline-Heizung oder einen Kühler/Heizer.
Direkte Heizung/Regelung der Prozessflüssigkeit in Nassbänken.
Chemische Temperaturregelung mit niedrigem Durchfluss in einem Durchgang
Betriebsbereich: - 40°C bis 90°C
Umgebungstemperatur: - 10°C bis 40°C nicht kondensierend
Stabilität / Wiederholbarkeit: - ± 0,2°C (bei typischer Konfiguration)
Heizleistung: - 3000 Watt
Prozessflüssigkeit: -
Ideal für H2SO4 / H2O, SC1, SC2 Galvanikbäder oder
andere PFA-Teflon-kompatible Flüssigkeit
Flussraten: -
4-10 gpm (15-38 lpm) mit Parallelfluss (4:1-Armaturen)
0.5-2 gpm (2-8 lpm) mit seriellem Durchfluss (Low-Flow-Option)
Maximaler Druck: - Prozess: 90 psig bei 40°C, 55 psig bei 90°C
Teflon-Verschraubungen: - 3/4" oder 1" Flaretek oder Teflon-Rohrstutzen
Benetzte Materialien: - Prozessflüssigkeit fließt nur durch HDPFA-Teflonschläuche
Größe (L x B x H): -
17.5" x 11,25" x 4,65" (44,4 cm x 28,6 cm x 11,8 cm) mit Isolierung
16" x 9,75" x 3,15" (40,6 cm x 24,8 cm x 8,0 cm) ohne Isolierung
Leistungsbedarf
(separate Einheit): - Rückschaltung 6600 eingestellt auf 0-144 VDC, 0-24 Ampere
Normen - Semi S2-0200, F47-konform, CE
Garantie: - 2 Jahre
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