Nano-Positioniersystem / 3-Achs NPP-1

Laseroptischfür Industrieanwendungen

Planares laserinterferometrisches Mess- und Positioniersystem für AFM • 2,5 D-Positionier- und Messsystem höchster Genauigkeit • Mess- und Positionierbereich: Fläche Ø 100 mm • Laterale Messauflösung ≤ 0,02 nm • Steuerung: 3 fasergekoppelte Differenzinterferometer • Metrologische Rückführbarkeit durch die Verwendung der He-Ne-Laser mit 633 nm als Lichtquelle für die Interferometer • Rasterkraftmikroskope als Antastmesssystem, andere auf Anfrage • Offene Gerätearchitektur ermöglicht eine Anwendung von kundenspezifischen Sensoren • Steuerung der NPP-1 erfolgt über eine PC-Software. Eine Anwender-API ist vorhanden. Die Nanomess- und Positionierplattform NPP-1 ermöglicht eine Positionierung in einem Bereich von rund 100 mm. Die hohe Auflösung der Laserinterferometer, die zur Regelung verwendet werden, die steife Architektur der Positionieranordnung, die luftgelagerten Achsen des Positioniersystems und ein optimiertes Regelungssystem erlauben die Positionsabweichungen und Bahntreue der Bewegungen < 2 nm RMS. Das Messobjekt liegt direkt auf einem beweglichen Spiegel. Die Position und die Rotation des Spiegels werden interferometrisch erfasst. Es kommen bei diesem System ultrastabile Interferometer der Serie SP-DI/F zum Einsatz. Das Licht von einem stabilisierten Laser wird über Lichtwellenleiter aus der Elektronikeinheit in die Interferometerköpfe übertragen. Dadurch entsteht ein kompakter und temperaturstabiler Aufbau der NPP-1. Mit einer Nutzlast von bis zu 5 kg können auch größere und schwerer Objekte mit der Plattform hochgenau positioniert werden.