Folienlackiermaschine

PECVD-Pilot-Beschichtungsanlage Bewerbung Die PECVD-Pilotbeschichtungsanlage ist für die Herstellung von p-i-n-Stapeln aus amorphem, hydriertem Silizium auf Metallfolien vorgesehen. Der Coatar wird als Experimentierwerkzeug zur Optimierung der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung von funktionellen Schichten und zur Herstellung von Versuchsmaterialien verwendet. Technik und Technologie Die PECVD-Pilotbeschichtungsanlage ist eine Rolle-zu-Rolle-Anlage, die für die einseitige Vakuumbeschichtung von bis zu 350 mm breiten Metallfolien ausgelegt ist. Die Beschichtung wird durch eine HF-Entladung abgeschieden. Die Abscheidungszone besteht aus einer HF-Elektrode in einem gasdichten Volumen. In den Abscheidungszonen werden kontaminationsfreie Bedingungen geschaffen. Das Substrat wird vor der Beschichtungsabscheidung vorgewärmt, während des Abscheideprozesses erwärmt und nach der Beschichtung abgekühlt. Die Temperaturgradienten auf der Folie überschreiten nicht 4 oC/cm. Die Temperatur auf elektrischen Geräten, der gekrümmten Platte und dem Substrat wird mit Thermoelementen und IR-Sensoren überwacht. Das Substrat wird mechanisch durch eine beheizte gekrümmte Platte unterstützt. Die gekrümmte Platte besteht aus mehreren Segmenten mit einem Krümmungsradius von 7,5 Metern. Die Beschichtungsanlage ist mit einem symmetrischen, reversiblen Wickelsystem ausgestattet, das eine optimierte Spannung und Folienhandhabung ohne Kratzer und Faltenbildung ermöglicht. Das Pumpsystem besteht aus mechanischen Druckerhöhungs- und trockenen Vorlaufpumpen. Der Druck in jeder Abscheidezone kann unabhängig voneinander mit Drosselventilen in den Pumpenleitungen variiert werden. Das Steuerungssystem überwacht und steuert alle vorgegebenen Prozessparameter. Datenblatt Trägermaterial: Metallfolien Breite des Substrats: 350 mm Substratdicke: 50 ... 100 µm Beschichtung: a-SiH Maximaler Rollendurchmesser: 400 ... 550 mm .. Ablagerungszonen: 8 kapazitive HF-Entladungen