PECVD-Beschichtungsanlage im Produktionsmaßstab
Bewerbung
Plasmagestützte CVD von p-i-n-Tandemstapel aus amorphem hydriertem Silizium auf Metallfolien zur Herstellung von solarabsorbierenden Mehrfachschichten.
Technik und Technologie
Das PECVD-Beschichtungssystem ist eine Produktionsanlage vom Typ Rolle-zu-Rolle, die für die einseitige Vakuumbeschichtung von bis zu 1340 mm breiten Metallfolien ausgelegt ist.
Die Abscheidungszone besteht aus einer oder mehreren HF-Elektroden innerhalb eines gasdichten Volumens und ist für die Aufwärtsabscheidung konfiguriert. Die besondere Konfiguration der Abscheidungszonen verhindert eine Kreuzkontamination.
Das Substrat wird vor der Beschichtungsabscheidung vorgewärmt, während des Abscheideprozesses erwärmt und nach der Beschichtung abgekühlt. Die Temperaturgradienten auf der Folie überschreiten nicht 4 oC/cm. Die Temperatur auf elektrischen Geräten, der gekrümmten Platte und dem Substrat wird mit Thermoelementen und IR-Sensoren überwacht.
Das Substrat wird durch eine beheizte gekrümmte Platte mechanisch unterstützt. Die gekrümmte Platte besteht aus mehreren Segmenten mit einem Krümmungsradius von 10 Metern.
Ein irreversibles Wickelsystem sorgt für eine optimierte Spannung und Folienhandhabung ohne Kratzer und Faltenbildung.
Das Pumpsystem besteht aus mechanischen Druckerhöhungs- und trockenen Aufbereitungspumpen. Die HF-Zonen haben separate, gedrosselte Pumpenleitungen, um die Gasflüsse und den Druck in jeder Zone unabhängig voneinander zu variieren.
Die zweistufige Serviceplattform, die bewegliche Kammertür und die HF-Elektroden gewährleisten eine einfache Wartung.
Das Steuerungssystem verwendet ein modulares Konzept zur einfachen Erweiterung der Steuerungssoftware.
Datenblatt
Trägermaterial: Metallfolien
Substratbreite: bis zu 1340 mm
Substratdicke: 50 ... 100 µm
Maximaler Rollendurchmesser: bis zu 820 mm
Beschichtung: a-Si:H
Wickelgeschwindigkeit: 0,05 ... 0,5 m/min
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