Eigenschaften
● Nach UV-Bestrahlung, keine Kleberückstände nach Abriss des Bandes.
● Modertate Viskosität, keine Rückstände.
● Beim Abreißen der Membran ist das Geräusch gering und beeinträchtigt nicht die umgebende Produktionsumgebung.
● Gleichmäßige Beschichtung, starke Zugfestigkeit.
Anwendungen
● Abziehen des rückseitigen Schleifbandes von Silizium-Wafern für den Halbleiterherstellungsprozess.
---