PVD-Auftragsmaschine RT-EMI1600

SputterPVD durch thermisches Verdampfenionenstrahlgestützte

Der Kammergrößendurchmesser 1600mm und die Höhe 1600mm können eine Produktvielfalt unterbringen. EMS, die Film-Eigenschaften abschirmt 1) Dicke: 1,5 | 3 Mikrometer hängt von der Anforderung ab. 2) Schichtwiderstand: (Ohm) besser als 0.5Ω 3) Adhäsion: Band 3M810 > 5B EMS, die Filmbeschichtungsverfahren abschirmt 4) DC Spritzenedelstahl 5) Kupferne Absetzung durch thermische Verdampfung 6) DC Spritzenedelstahl, Volldeckung auf Cufilmschicht. Elektrische magnetische Störung, die Metalizer-Eigenschaften abschirmt 1) Struktur 2-door und schnelle pumpende Geschwindigkeit für eine hohe Produktivität 2) funktionierende freundliche Touch Screen Platte mit PLC-Steuerung 3)Software-Programmentwurf der Menschlichkeit freundlicher für stabile Produktion und hohe Qualität. 4) Hohe Spritzenziel-Auslastung stellt niedrigen Produktionskosten sicher. 5) Gute Einheitlichkeit u. ausgezeichnete Adhäsion 6) Modernes Konzept des Entwurfes, damit eine bessere Leistung Produktions-Leistungsfähigkeit und qualifizierte Rate erhöht. 7) Ionenquellgerät, damit die Plasmareinigung und die Oberflächenspannungsbehandlung Adhäsion verbessert. PVD-Bedampfen-Vorteile: Ende werden unter Verwendung eines umweltfreundlichen grünen Prozesses, Verschmutzung frei niedergelegt; Hohe Leistungsfähigkeit und ausgezeichnete Einheitlichkeit. Großserienproduktion, niedrige Kosten, ideale Lösung für Massenproduktionsnachfrage.