PVD-Auftragsmaschine RT-DPC1215+
SputterionenstrahlgestützteDünnschicht

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Eigenschaften

Methode
PVD
Technologie
Sputter, ionenstrahlgestützte
Art der aufgebrachten Schicht
Dünnschicht, für Metallfilm, für Aluminiumbeschichtung
Weitere Eigenschaften
Vakuum
Anwendung
für die Mikroelektronik, für Photovoltaikanwendung, für Photovoltaikmodule, für Kondensator

Beschreibung

Höherer leistungsfähiger Prozess: 1. ist doppelte mit Seiten versehene Beschichtung durch Umsatzbefestigungsentwurf verfügbar 2. flanscht planare Standardkathode bis 8 für mehrfache Quellen 3. große Kapazität bis zu 2,2 ㎡ keramischen Chips pro Zyklus 4. völlig Automatisierung, PLC+Touch-Schirm, Ein-Notenkontrollsystem Senken Sie Produktionskosten: 1. ausgerüstet mit 2 molekularen Pumpen der magnetischen Suspendierung, schnelle Anfangszeit, freie Wartung; 2. Maximumheizkraft; 3. achteckige Form der Kammer für optimalen Raum unter Verwendung, bis 8 Bogenquellen und 4 Spritzenkathoden für schnelle Absetzung von Beschichtungen Das dpc-Prozess direkte Überzug-Kupfer ist eine moderne Beschichtungstechnologie, die mit LED und Halbleitern in den elektronischen Industrien angewendet wird. Eine typische Anwendung ist keramisch, Substrat ausstrahlend. Kupferne leitfähige Filmabsetzung auf Aluminiumoxyd (Al2O3), AlN-Substrate durch PVD Staub saugen Spritzentechnologie, hat vor allem einen großen Vorteil, der mit traditionellen Produktionsmethoden verglichen wird: DBC LTCC HTCC haben viel niedrigere Produktionskosten.

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.