PVD-Auftragsmaschine RTSP1000

Hoch -PE-CVDMagnetron-SputterArc-verdampfung

Geschlossenes Feld brachte Magnetronspritzenabsetzungssystem, unausgeglichenen Magnetron-Spritzenionenüberzug aus dem Gleichgewicht Unausgeglichene und geschlossene Feldmagnetronprozesse haben alle Vorteile von planaren Magnetrons. Zusätzliche Vorteile und Nachteile sind: -Zusätzliche Ionenbombardierung mit dem Ergebnis der dichten, anhaftenden Filme -Ionenvorlage und Substratsäubern möglich -Verbessertes tribologisches, Abnutzung und korrosionsbeständige Filme -Zugänglich den mehrschichtigen, des Superlattice, nanolaminant und des nanocomposite Filmen -Schlechterer Materialverbrauch -Komplexere Kathodenkonfiguration/-ausgabe Unausgeglichenes und geschlossenes Feldmagnetron, welches die revolutionierten Eigenschaften erreichbar durch Magnetronspritzenprozesse spritzt. Als erfolgreiches mit dem verbesserten tribologischen Dünnfilm, waren Korrosionsbeständigkeit und optische Eigenschaften als diese Technologie, Verbesserungen in der Magnetrontechnologie hatten angefangen gerade. Folgendes Blog, das wir auf Anwendungen des drehenden und zylinderförmigen Dünnfilms der Magnetronprozesse und -c$resultierens uns bewegen.