Die Hochspannungsnetzgeräte der HEM-Serie von Wisman sind umfassende Hochspannungsnetzgeräte mit mehreren Ausgängen für die Fokussierung von Ionenstrahlen. Typische Anwendungen sind die Transmissions- und Rasterelektronenmikroskopie, die Halbleiteranalyse, das Fräsen und Reparieren von optischen Antriebsköpfen, Ionen, Strahlätzen und fokussierte Ionenstrahllithographie. Die modulare Bauweise ermöglicht eine einfache Konfiguration und Montage der einzelnen Komponenten auf einem großen Chassis in einem gemeinsamen Gestell. Schnittstellen-, Logik- und Steuerschaltungen sind in Oberflächenmontagetechnik ausgeführt, um Kosten und Größe zu minimieren. Integrierte Beschleunigungsstromversorgung, Filamentstromversorgung, absorbierende polare Leistung, inhibierende polare Leistung und Linsenleistung. Ultra-niedrige Ausgangswelligkeit, hervorragende Anpassungsrate, Stabilität, Temperaturdrift und Genauigkeit. Patentierte Hochspannungsaufhängung und digitale Steuerungstechnologie. Die hochpräzisen Module der HEM-Serie sind preislich konkurrenzfähig und eignen sich ideal für OEM-Anwendungen.
TYPISCHE ANWENDUNG
Transmissions-Rasterelektronenmikroskop
Rasterelektronenmikroskop
Analyse von Halbleitern
Bearbeitung und Reparatur
Ionenstrahl-Ätzen
Fokussierte Ionenstrahllithographie
Restwelligkeit 2ppm
SPEZIFIKATION
Leistung des Beschleunigers
Restwelligkeit: 70 mV P-P, von 0,1 Hz bis 1MHZ
Leitungsregelung: Eingangsänderung + / -10% für 100mV
Lastregelung: ± 0,01%, maximale Spannung, volle Laständerung
Stabilität: nach 2 Stunden Aufwärmen, 1,5V/10 Stunden
Temperaturkoeffizient: 25 PPM/°C
Leistung des Extraktors
Restwelligkeit: 30 mV P-P, von 0,1 Hz bis 1 MHZ, unter 30μA
Leitungsregelung: Eingang + / -10% Änderung ist 100mV
Lastregelung: ± 0,01%, maximale Spannung, volle Laständerung
Stabilität: Nach Vorwärmung für 2 Stunden, 500mV/10 Stunden
Temperaturkoeffizient: 25 PPM/°C
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