Entfernte Verunreinigungen: H2O, O2, CO, CO2, CnHm
- Reinigungsverfahren: Chemisorption + Adsorption
- Prinzip: Das Gas durchläuft einen speziellen Katalysator und eine Adsorptionsschicht, in der Verunreinigungen entfernt werden.
- Hauptanwendungsbereich: Halbleiterindustrie, Schweißgas, Schutzgase....
Technische Informationen:
- Druck: bis zu 380 bar
- Verunreinigungsgrad am Ausgang: < 10 ppb Halbautomatische oder automatische Version (HMI/PLC)
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