Entfernte Verunreinigungen: O2, H2O, H2
- Reinigungsverfahren: Adsorption + Katalyse
- Prinzip: Das Gas durchströmt einen speziellen Katalysator und eine Adsorptionsschicht, in der Verunreinigungen entfernt werden.
- Hauptanwendungsbereich: Halbleiterindustrie, Schweißgas, Schutzgase..
Technische Angaben:
- Druck: bis zu 380 bar
- Verunreinigungsgrad am Ausgang: < 10 ppb
- Halbautomatische oder automatische Version (HMI/PLC)
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