Entfernte Verunreinigungen: N2, Ar, O2, CO, CO2, H2O, CH4
- Reinigungsverfahren: kryogene Adsorption
- Prinzip: Das Gas strömt bei sehr niedriger Temperatur durch die Adsorptionsmittelschicht.
- Hauptanwendungsbereich: Mobilität, Photovoltaikanlagen, Gasindustrie, Halbleiterindustrie..
Technische Daten:
- Druck: bis zu 380 bar
- Verunreinigungsgrad am Ausgang: < 10 ppb
- Halbautomatische oder automatische Version (HMI/PLC)
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