Oberflächensensitive Mikroskopie
20 nm Laterale Auflösung
Lokale Spektroskopie
k-Space-Bildgebung
Einfach zu bedienen
Kompatibel mit MULTIPROBE UHV-Systemen
Ein FOCUS-Produkt
Die Photoemissions-Elektronenmikroskopie (PEEM) ist eine extrem leistungsfähige Bildgebungstechnik, deren Vielseitigkeit für topographische, chemische und magnetische Kontrastaufnahmen mit hoher Auflösung in vielen Labor- und Synchrotronanwendungen nachgewiesen wurde.
Wichtige Beiträge zur Charakterisierung von magnetischen Bauelementen, Plasmonforschung, Oberflächenchemie und hochauflösende chemische Analyse in Kombination mit Synchrotronstrahlung, Untersuchung zeitaufgelöster Prozesse und k-Raum-Bildgebung sind nur einige Beispiele für aktive PEEM-basierte Forschung. Im Gegensatz zu einem Rasterelektronenmikroskop (REM) bildet PEEM Oberflächenbereiche, die Photoelektronen emittieren, direkt in Echtzeit ab, ohne abzutasten
Die Elektronenemission von Oberflächen kann auf verschiedene Weise verursacht werden - durch Anregung durch Photonenbestrahlung, thermisch, durch Elektronen/Ionenbeschuss oder durch Feldemission. Im Laufe der Jahre wurde das FOCUS-PEEM kontinuierlich in Bezug auf Leistung und Benutzerfreundlichkeit verbessert. Das PEEM folgt zusammen mit dem dedizierten hochstabilen integrierten Probentisch (IS) und verschiedenen verfügbaren Energiefiltern einem modularen, leicht erweiterbaren Konzept. Darüber hinaus gewährleistet der softwaregestützte Betrieb einen zeiteffizienten und sicheren PEEM-Betrieb auch bei schwierigen Proben. Mit mehr als 50 Einheiten auf dem Markt ist das FOCUS IS-PEEM ein leistungsfähiges Werkzeug zur Oberflächenanalyse.
---