Fokussiertes Ionen Strahl System GCIB 10S

Der GCIB 10S wurde für ultimative Tiefenprofilierung in Kombination mit XPS und anderen Oberflächenanalysesystemen entwickelt. Cluster-Ionenstrahlen ermöglichen die Tiefenprofilanalyse von Polymeren mit minimalem Verlust chemischer Informationen durch Ionenstrahlschäden. Dies ist entscheidend für die Analyse moderner Mehrschichtstrukturen, wie z.B. in OLED, bio-medizinischen, empfindlichen Beschichtungsgeräten oder anderen Polymeroberflächen, zeigt aber auch eine deutliche Verbesserung in der Analyse etablierter Materialien, die sich beim normalen Profilieren mit Ar1 verschlechtern können. Neben der Verwendung der Argoncluster-Ionenquelle in Kombination mit neuen XPS-Systemen kann der GCIB 10S auch problemlos in bestehende UHV-Systeme mit einem geeigneten NW63CF-Flansch zur Probe integriert werden. Es bietet eine kostengünstige Möglichkeit, XPS, SIMS oder andere Systeme aufzurüsten, um das Cluster Beam Sputtern zur Probenreinigung oder Tiefenprofilanalyse zu nutzen.