Abscheidung von Tunneloxidschichten, i-Poly und D-Poly für TOPCon-Solarzellen.
- Niederdruck- und Heißwandverfahren mit besserer Schichtgleichmäßigkeit und guter Kompaktheit.
- LPCVD-Verfahren, dicht beladene Substrate haben wenig Einfluss auf die Beschichtungsrate, mit großer Beladungskapazität in einem einzigen Rohr.
- Mehr Temperaturzonen, um die Gleichmäßigkeit zwischen Wafern zuverlässig zu gewährleisten.
- Unabhängig einstellbarer, segmentierter Lufteinlass, um den Luftstromverarmungseffekt zu kompensieren.
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