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Beschichtungsanlage PAR5500A
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Beschreibung
Physikalische Inline-Beschichtungsanlage für die Beschichtung von Wafern, Glasplatten oder flexiblen Substraten mit transparentem leitfähigem Oxid (TCO).
- Magnetron-Sputter (PVD).
- Reaktive Plasmaabscheidung (RPD).
- Mehrfachkathodenbetrieb für Keimschicht und Tandem-TCO mit mehreren Brechungsindizes.
- Keine Bombardierung des Substrats bei gleichzeitiger Beibehaltung einer hohen Mobilität.
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.