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Nassverarbeitungsanlage BatchTex®
für Solarzellen

Nassverarbeitungsanlage
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Eigenschaften

Merkmal
Nass, für Solarzellen

Beschreibung

RENA bietet die besten Verarbeitungslösungen ihrer Klasse für Batch-Prozesse für Texturierungs-, Ätz- und Reinigungsanwendungen. Mithilfe der RENA Batch N-Technologie kann eine hocheffiziente Solarzellen-Technologie zum Einsatz kommen. Von RENA optimiertes Ätzen und Reinigen von Poly-Si. Die BatchPolyClean sorgt für eine deutliche Effizienzsteigerung und optimale Prozessleistung. Dieses System ist mit verschiedenen Wafergrößen von M0 bis G13 sowie Kassetten mit hoher Kapazität kompatibel. Dies führt zu einer deutlichen Steigerung des Durchsatzes auf bis zu 15.000 Wafer pro Stunde und senkt gleichzeitig die Gesamtbetriebskosten deutlich. RENA BatchPolyClean setzt einen neuen Standard für die Entfernung von Poly-Si, Shunt-Ätzung und anschließende Hochleistungsreinigung für TOPCon-Zellen in der Solarindustrie. Die automatische Verarbeitungsanlage RENA BatchEtch N wird zum Ätzen großer Mengen von Silizium-Solarzellen eingesetzt. Je nach Kundenanforderungen sind alkalische oder saure Prozesse verfügbar. Reinigungsschritte lassen sich ebenfalls in die Anlage integrieren. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA Batch N-Plattform entwickelt. Die RENA BatchTex® N Fertigungsanlage ist die erste Wahl, wenn eine Lösung für alkalische Texturierungsprozesse für monokristallines Silizium (mono-Si) mit einem hohen Durchsatz und bester Qualität erforderlich ist. Die RENA monoTEX® Prozesstechnologie sorgt für erstklassige Texturierungergebnisse, und RENA BatchTex® ist die branchenweit am häufigsten eingesetzte Lösung. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA Batch N-Plattform entwickelt.
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.