InCellPlate® ist die neue Inline-Anlage von RENA für die Direktgalvanisierung von Silizium mit einem Ni-/Cu-/Ag-Stapel. In Kombination mit der Laserablation der Siliziumnitridschicht und anschließendem Inline-Glühen ermöglicht sie die vollständige, siebdruckfreie Metallisierung der Vorderseite für die Solarzellenherstellung.
Funktionen und Vorteile
Produktionsmaschine - bis zu 5000 Wafer/h
Massive galvanisierte Metallleiter
Betriebskosteneinsparungen von bis zu 3.5 $Ct/Zelle
Kontakthaftung entspricht derjenigen von standardmäßigen Siebdruckzellen
Modulzuverlässigkeit durch Fraunhofer ISE und Industriepartner bestätigt
Hochgradig spezialisierte Maschinenentwicklung für Galvanisierungstechnologie auf erprobter Plattform
Effizienzsteigerung um bis zu 0,3 % durch reduzierte Abschattung und Kontaktierung der geringen Emitteroberflächenkonzentrationen
Ermöglicht den Einsatz hochohmiger homogener Emitter
Homogene Metallverteilung für niedrigsten Serienwiderstand
Geringer Wasserverbrauch durch kaskadierte Spülung
Validiert auf PERC, TopCon und BSF Zellen
Patentierte einseitige Inline-Galvanisierung
Potenzialfreie Kontakte (keine Entmetallisierung der Kontakte erforderlich)
Reduzierung von chemischem Austrag und Betriebskosten
Keine Zerstörung der Al-Rückseite durch die trockene Wafer-Rückseite
Technologiepartner
Innolas Solutions: Hochmoderne Laserablationsausrüstung
MacDermid Enthone: Hocheffiziente Chemikalien zum Galvanisieren