Verarbeitungsanlage für Solarzellen InOxSide®

chemischNass

Die automatische Verarbeitungsanlage RENA InOxSide® 3 wurde als integrierte Lösung für die Kantenisolierung, Rückseitenpolitur und Entfernung von dotiertem Glas an Silizium-Solarzellen entwickelt. Dank eines Prozesses, der geringste Betriebskosten und die beste Leistung garantiert, bietet sich die InOxSide® Technologie als beste Wahl bei der Herstellung von Al-BSF, PERC und PERT Silizium-Solarzellen an. Die Anlage wurde auf Grundlage der RENA NIAK Inline-Plattform entwickelt. Funktionen und Vorteile Vollautomatische, nasschemische, einseitige Ätzung in einem Inline-Prozess auf 5/6 Spuren Einseitige Emitter-Ätzung, Rückseitenpolitur und Entfernung von dotiertem Glas (PSG/BSG) Verwendung von HF/HNO3/H2SO4 für die einseitige Ätzung, wodurch bestmögliche Betriebskosten (Cost of Ownership, CoO) erreicht werden RENA-patentierte Technologie Einstellbare Rückseiten-Ätzung 1 bis 5 µm, bis zu 6 µm mit der Option RENA PreCon) Integrierte Spülung und Trocknung von Wafern Durchsatz bis zu 6000 Wafern/Stunde Kompatibel mit Wafer-Größe M0, M1, M2, M4, M6 und M12 Lange Lebensdauer des Bades dank Feed-and-Bleed-Funktion Akkurates Dosiersystem für eine konstante Zusammensetzung des Bades Verwendung eines Rollendesigns ohne O-Ring Branchenweit geringste Bruchraten Basiert auf der RENA NIAK Inline-Verarbeitungsplattform Hohe Verfügbarkeit Einfache Wartung