Reinigungstrockner Genesis

SprühChargenKlarspül

Der RENA Genesis Marangoni Trockner kombiniert den Trocknungsprozess mit der Reinigung und Spülung in einem Schritt. Genesis ist eine patentierte Technologie, die eine hervorragende Sauberkeit der Wafer und Wasserentfernung gewährleistet. Diese Trockner können sowohl als eigenständige Plattformen als auch integriert in Batch-Tauch-Nassbänke eingesetzt werden. Der gesamte Prozess wird von RENAs exklusiver Prozesssteuerungssoftware IDX Flexware überwacht und gesteuert. Der Marangoni-Trockner von RENA bietet eine überlegene Leistung, verbesserte Ausbeute und reduzierte Partikelpräsenz. Funktionen und Vorteile Kostengünstig Robust, effizient und sauber Manuelles oder automatisiertes Waferhandling Wafergrößen 50 - 200 mm Teflon-Kassetten Trocknet hydrophobe und hydrophile Oberflächen Keine Beschädigung des Fotolacks Geringer IPA-Verbrauch (< 20 ml pro Trocknungszyklus) Hervorragende Partikelleistung Typische Zykluszeit 7-20 Minuten Integrierte DI-Wasserfiltration als Option Optionale Chemikalieneinspritzung Optionale IPA-Rückführung für robustere Partikelleistung