RENA COMPASS Spin Rinse Dryers sind hochwertige Wafer-Trockner, die alle Rückstände aus den vorherigen Prozessschritten abspülen und die Wafer anschließend trocknen. Diese Plattformen bieten die fortschrittlichsten Funktionen, die in den heutigen SRDs zu finden sind. Die RENA COMPASS SRD-Familie wurde entwickelt, um die Betriebskosten zu senken und gleichzeitig hervorragende Sauberkeit, Trockenheit und Partikelspezifikationen zu gewährleisten. Diese Plattformen verwenden DI-Wasserspülung gefolgt von N2-Trocknung sowohl für hohe als auch für niedrige Profilkassetten. Die berührungslose Heizung in COMPASS SRD führt zu sauberem N2.
Funktionen und Vorteile
Niedrige Betriebskosten
Signifikante N2-Einsparungen
Niedrige Partikelleistung
DI-Wasser-Sprühverteiler mit 10 Düsen
Hervorragende Kontrolle von Vibration und Statik
Erweiterte Prozesssteuerung mit IDX Flexware
Programmierbarer Sollwert für N2-Heizung und Temperaturüberwachung
Steuerung von Widerstand, Antistatik und Heizdecke
Kassette mit hohem und niedrigem Profil