Reinigungssystem / im Nassverfahren Inception

SprühLösungsmittelSäure

RENA Inception, das kompakte halbautomatische System zur Bearbeitung einzelner Wafer, ist eine ideale Lösung für nasschemische Reinigungs-, Ätz- und Resistauslöseprozesse. Diese Plattform ermöglicht den Übergang von R&D zur Pilotproduktion in der Halbleiterfertigung. Inception kann sowohl für Säureanwendungen in FEoL als auch für Lösungsmittelanwendungen in BEoL eingesetzt werden. Es bietet eine überragende Ätzgleichmäßigkeit <= 1% innerhalb eines Wafers, von Wafer zu Wafer und von Lot zu Lot. Die Inception besteht aus zwei beweglichen Sprüharmen mit separaten Chemikalienleitungen, die zusammen mit der Konstruktion mit mehreren Tanks eine mehrstufige Verarbeitung ermöglichen. Für unterschiedliche Wafer- und Substratgrößen stehen verschiedene Chucks zur Verfügung, die eine einfache Einrichtung für verschiedene Anwendungen ermöglichen. Die IDX Flexware Software von RENA bietet viele vorteilhafte Funktionen für die Prozesssteuerung und -überwachung. Alle RENA-Systeme sind mit der SECS/GEM-Schnittstelle des Factory Hosts kompatibel. Funktionen und Vorteile Wafer bis zu 200 mm und Masken bis zu 7 x 7 Gleichmäßigkeit der Ätzung übertrifft Batch-Systeme Manuelles oder automatisiertes Wafer-Handling Einzel- oder Doppelladeanschluss 2 bis 4 chemische Prozesstanks Hochgenaue Konzentrationskontrollen (ABB, Horiba, CI Semi) Hochpräzise Spiking-Fähigkeit (Chemie & DI) Automatischer chemischer Ausgleich von Verlusten Kleine Stellfläche