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Sprühreinigungssystem SST LösungsmittelProzess
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Eigenschaften
- Technologie
- Sprüh, Lösungsmittel
- Anwendung
- Prozess
Beschreibung
Anwendungen für die Lösungsmittelreinigung, das Strippen von Fotolack und für Entwicklungsprozesse werden hocheffizient durchgeführt, einschließlich Spülung und Trocknung. Das Spray-Batch-System von RENA ist für Lösungsmittel entwickelt worden. In einer Kammer können verschiedene Lösungsmittelarten kombiniert werden, was großes Potenzial für Effizienz und Prozessoptimierung bietet. Der Bediener hat keinen direkten Kontakt mit dem Lösungsmittel, was den Prozess sicher macht.
Funktionen und Vorteile
Geringerer Mittelverbrauch
Optimierter Platzbedarf
Handhabung von Einzel- oder Doppelkassetten
Äußerst wartungsfreundlich, leichter Zugang
SECS-/GEM-Schnittstellenoptionen
Flexibel und upgradefähig
Verbesserte Bedienersicherheit
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Halbleiter
Verwandte Suchbegriffe
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.