Lösungsmittel-Reinigungssystem SST

SprühProzess

Anwendungen für die Lösungsmittelreinigung, das Strippen von Fotolack und für Entwicklungsprozesse werden hocheffizient durchgeführt, einschließlich Spülung und Trocknung. Das Spray-Batch-System von RENA ist für Lösungsmittel entwickelt worden. In einer Kammer können verschiedene Lösungsmittelarten kombiniert werden, was großes Potenzial für Effizienz und Prozessoptimierung bietet. Der Bediener hat keinen direkten Kontakt mit dem Lösungsmittel, was den Prozess sicher macht. Funktionen und Vorteile Geringerer Mittelverbrauch Optimierter Platzbedarf Handhabung von Einzel- oder Doppelkassetten Äußerst wartungsfreundlich, leichter Zugang SECS-/GEM-Schnittstellenoptionen Flexibel und upgradefähig Verbesserte Bedienersicherheit