Tauch-Feuchtbank Advancer

Batchfür Halbleiterfür Wafer

Für die einstufige Nassbearbeitung von Halbleiterwafern bietet RENA die halbautomatische "Advancer"-Familie an. Diese Tauchanlagen sind robust, praxiserprobt und hochgradig konfigurierbar bei bemerkenswert geringer Stellfläche. Die "Advancer" sind eine ideale Lösung für einstufige Ätz-, Reinigungs- und Resist-Striping-Prozesse von Halbleiteroberflächen. Die "Advancer"-Familie besteht aus drei Plattformen: Micro, Classic und Gemini. Der "Advancer Micro" und der "Advancer Classic" verfügen über einen Prozess- und einen Spültank mit seitlichem Linearroboter für einstufige Prozesse. Der "Advancer Gemini" ist eine Nassbank mit zwei Prozessen und zwei Robotern und eine der kostengünstigsten Plattformen auf dem Markt. Der "Advancer Gemini" kann entweder zur Verdoppelung der Prozesskapazität oder zur Durchführung sequentieller Prozessschritte bei reduziertem Platzbedarf und Kosten eingesetzt werden. RENA-Systeme bieten eine hervorragende Prozesssteuerung und -überwachung unter Verwendung der IDX Flexware-Software mit vorteilhaften Funktionen und Möglichkeiten. Alle RENA-Systeme sind wartungsfreundlich und konform mit der SECS/GEM-Schnittstelle des Werksbetreibers. Funktionen und Vorteile Trocken-zu-Trockenfähigkeit Einstufiger Prozess und Spüldesign Handhabung von Einzel- oder Doppelkassetten Wafergrößen von 50 bis 200 mm 150 mm und 200 mm Verarbeitung ohne Änderungen IDX Flexware Process Control Software Intuitiver HMI-Touchscreen Äußerst wartungsfreundlicher seitlich montierter Roboter SECS-/GEM-Schnittstellenoptionen Flexibel und upgradefähig An Kundenspezifikation angepasst