Die neue baSiC-T der PVA TePla wurde speziell für moderne Anwendungen und Anforderungen im Bereich Power Electronic entworfen. Mittels PVT-Methode (Physical Vapor Transport) wird ein hochreiner Siliziumkarbid-Kristall durch Sublimation eines Ausgangspudermaterials bei hohen Temperaturen erzeugt. Die baSiC-T besitzt ein modulares Anlagenkonzept, so dass SiC Kristalle mit einem Durchmesser bis zu 6 Zoll produziert werden können.
Neue Generation von SiC (PVT) Kristallzuchtanlagen
Designed für Power Electronic Anwendungen
Volumenproduktion mit hohem Automationsgrad
Zentrale Produktionsüberwachung mittels Fab Management Software
Kleine und kompakte Aufstellfläche
Verfügbar als 4´´ und 6´´ Anlage
Induktionsheizung mit erprobten Spulenkonzepten
Niedriger Energieverbrauch (ca. 10KW bei 2.200 °C)
Mobiles Hotzone Be- und Entladesystem
Anspruchsvolles Kontrollsystem
Intuitive Bedienung und hoher Automationsgrad
Prozessvisualisierung mit umfangreicher Prozessdatenauswertemöglichkeit
Offline Rezepterstellung
Regelkreise sind parametrierbar
Sehr gutes Sicherheitskonzept
CE Konformität
Sicheres Arbeiten durch Einsatz von mehrstufigen Sicherheitsvorrichtungen
Qualitätsprüfungen und ausführliche Qualitätsdokumentation
Enge Kooperationen von PVA TePla mit Kunden, Instituten und Zulieferfirmen