Die Pi111 PLUS G3 ist die dritte Generation der kleinen PVD-Beschichtungsanlage von PLATIT. Sie bietet Ihnen kurze Zykluszeiten, einfache Bedienung und hohe Benutzerfreundlichkeit zu einem attraktiven Preis – ohne Kompromisse bei der Schichtperformance. Dank zweier rotierender Kathoden mit Arc-Technologie ermöglicht die Anlage Ihnen das Abscheiden ausgewählter PLATIT Signature Coatings in reproduzierbar hochwertiger Qualität.
Die Pi111 PLUS G3 ist die beste Wahl für Kunden, die einen qualitativ hochwertigen Einstieg in die Beschichtungswelt suchen oder ihren Maschinenpark um eine schnelle, kleinvolumige PVD-Anlage ergänzen möchten.
Technologie
2 x LARC® PLUS-Kathode (LAteral Rotating Cathode) zur Arc-Beschichtung
Vergleichen Sie selbst, welche Vorteile LARC® PLUS-Kathoden im Vergleich zu LARC®-Kathoden bieten:
Um bis zu 30% bessere Target-Ausbeute
Erhöhte Abscheiderate durch optimiertes Magnetfeldsystem
Schnellerer Wechsel der Kathoden
Ätzverfahren
Bei der PLATIT Pi111 PLUS G3 Beschichtungsanlage können mehrere Ätzverfahren zum Einsatz kommen, die Ihnen verschiedene Vorteile bieten:
LGD® (Lateral Glow Discharge)
Plasma-Ätzen mit Argon, Glimmentladung
Metall-Ionenbeschuss (Ti, Cr)
Beladung und Zykluszeiten
Beschichtungs-Volumen: max. ø353 x H498mm
Beschichtungs-Höhe mit definierter Schichtdicke: max. 414mm
Beladung: max. 160kg
Chargen/Tag: 4-5
Modulare Karussellsysteme
Karussell mit 2 Kickern oder
3-faches Gearbox-System