PVD-Auftragsmaschine PL711

Die PL711 ist eine kompakte Sputter-Beschichtungsanlage auf Basis der HiPIMS-Technologie (High Power Impulse Magnetron Sputtering). Sie verfügt über zwei planare HiPIMS-Kathoden und ermöglicht Ihnen die Abscheidung von ausgewählten Nitrid- und Kohlenstoffschichten (DLC2, DLC3) mittels hochproduktiver Prozesse. Das dichte Plasma mit hoher Ionisation im Karussell erzeugt homogene Schichten und eine hohe Beschichtungsrate. Beschichtungen aus der PL711 liefern exzellent glatte Oberflächen bei gleichzeitig hoher Dichte, Härte und hervorragender Haftung. Technologie In einer PL711 Beschichtungsanlage kommen jeweils 2 planare Sputter-Kathoden mit HiPIMS-Technologie zum Einsatz. Ätzverfahren Bei der PLATIT PL711 Beschichtungsanlage können mehrere Ätzverfahren zum Einsatz kommen, die Ihnen verschiedene Vorteile bieten: LGD® (Lateral Glow Discharge) Plasma-Ätzen mit Argon, Glimmentladung Metall-Ionenbeschuss (Ti, Cr) Abscheidungsarten Sputter Nitrid-Beschichtungen Reaktive und nichtreaktive Prozesse Targets: Ti, Cr Beschichtungs-Temperatur bis zu 350°C Sputter Cr und PECVD a-C:H:Si DLC2 (PECVD-Beschichtung) Targets: Cr Beschichtungs-Temperatur 180-220°C Sputter Cr und ta-C + a-C DLC3 Targets: C, Cr Beschichtungstemperatur: <100°C Beladung und Zykluszeiten Beschichtungs-Volumen: max. ø600 x H805mm Beschichtungs-Höhe mit definierter Schichtdicke: max. 500mm Beladung: max. 250kg, höheres Gewicht auf Anfrage Chargen/Tag: 2 Modulare Karussellsysteme 3 Achsen oder 6 Achsen oder 9 Achsen