Vakuum-UV / EUV und In-Vakuum-Kamerasysteme
EUV- und VUV-Kameras bieten eine hohe Auflösung, einen hohen Dynamikbereich sowie eine gute zeitliche Auflösung.
EUV- und VUV-Kameras bieten eine hohe Auflösung (typischerweise bis unter 10 Mikrometer), einen hohen Dynamikbereich (12 bis 16 Bit) sowie eine gute zeitliche Auflösung (bis in den Mikrosekundenbereich), die für moderne gepulste Plasmaentladungs-ETV-Quellen erforderlich sind.
Die Kamera kann Einzelaufnahmen oder synchronisierte Mehrfachaufnahmen mit bis zu 13 Bildern pro Sekunde bei voller Auflösung von einer nativen EUV-Quelle aufnehmen, ohne dabei an blutenden Artefakten zu leiden.
Je nach der Flexibilität, die für die Charakterisierung und Inspektion von Maskenrohlingen / Resistenzen / Quellen / Optiken erforderlich ist, sind Flansch- und/oder Vakuumversionen erhältlich.
Das Empfindlichkeitsverhalten kann von 13,5 nm bis auf 0,0135 nm erweitert werden, wenn die Kamera zum Erfassen mehrerer Kennlinien verwendet wird. Die Tiefenkühlung ermöglicht einen sehr niedrigen Dunkelstrom von bis zu weniger als 0,005 Elektronen/Pixel/Sekunde für eine längere Belichtungszeit, wenn ein sehr schwaches Signal lange Integrationszeiten erfordert.
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