Überwachungssystem für Reinraum ADPC 302

Umgebung

Das ADPC 302 von Pfeiffer Vacuum ist ein einzigartiges produktionsbegleitendes Kontaminationsmanagementsystem zur Überwachung von Partikelverunreinigungen in der Halbleiterindustrie. Effiziente Überwachung von Partikeln Partikel in Submikrometergröße können auf den Wafern Schäden verursachen, die zu einem beträchtlichen Ausbeuteverlust führen. Schon kleinste Teilchen mit einer Stärke im Bereich von 0,1 µm sind oft die Ursache für Beschädigungen der Strukturen der Halbleiterchips. Das innovative ADPC 302 misst die Anzahl der Partikel in Wafer-Transportboxen (Front Opening Unified Pod, kurz FOUP, sowie Front Opening Shipping Box, kurz FOSB). Das patentierte vollautomatische Verfahren erkennt und zählt Teilchen auf der Oberfläche der Transportboxen einschließlich der Türen. Das System wurde von führenden Halbleiterherstellern qualifiziert und kann sowohl in der Serienproduktion als auch zu Analysezwecken im Bereich Forschung & Entwicklung eingesetzt werden. Anwendungsschwerpunkte sind neben der Transportbox-Charakterisierung eine Optimierung der Dekontaminationsstrategie sowie die Qualitätskontrolle der Reinigung. Die Vorteile des ADPC Kontaminationsmanagementsystems Das trockene Verfahren (Dry Particle Counter) des ADPC zeigt eindeutige Vorteile gegenüber der herkömmlichen nassen Methode (Liquid Particle Counter). Der Hauptvorteil des trockenen Prinzips liegt darin, dass die Partikelmessung vollautomatisch abläuft. Sie ist in den Herstellungsprozess eingebunden und muss nicht außerhalb der Produktionszeit durchgeführt werden.